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LX-S10-BLP1KW小功率冷水機
LX-S12-BHP1.2KW冷卻循環水機
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about us技術文章
Technical articles2026
1-21薄膜制備小型磁控濺射儀的結構組成及特性分析
薄膜制備技術在現代材料科學和工程中占據著重要地位，尤其是在電子器件、光電器件及傳感器等領域。磁控濺射是一種廣泛應用于薄膜制備的物理氣相沉積（PVD）方法，其優點...2025
12-17小功率冷卻水循環機的結構組成及常見應用
小功率冷卻水循環機是一種在實驗室、工業和商業應用中廣泛使用的設備。它的主要功能是提供穩定的冷卻水流，以維持設備或實驗的溫度，確保其正常運行。基本工作原理是通過壓...2025
11-20光纖鍍膜小型離子濺射儀的主要組成部分及其應用
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種專用于光纖表面涂層和薄膜沉積的設備，廣泛應用于光電子、通訊、光學、半導體等領域。離子濺射技術利用高能離子轟擊靶材，通過濺射效應使靶材...2025
10-23薄膜制備小型磁控濺射儀的具體工作過程分析
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜制備的實驗室設備。磁控濺射技術是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子...2025
9-17薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設計要點
磁控濺射是利用磁場增強的濺射效應來制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過電場將離子加速，撞擊靶材表面，導致靶材原子或分子濺射出來，并沉積到基...2025
8-20低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統濺射...2025
7-16桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過程。當高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時，靶材中的原子或分子受到沖擊力從表面彈出，產生濺射效應。濺射出的原子或分子會...2025
6-17冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設備，廣泛應用于材料科學、半導體工業、光電器件制造等領域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優點，并能夠在不加熱基材...推薦產品
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